Tomasello, Mario Vincenzo 1986-

Drogaggio di nanostrutture di Si tramite impiantazione ionica / Mario Vincenzo Tomasello ; relatore: Maria Grazia Grimaldi. - Catania : Scuola Superiore di Catania, 2008. - 84 p. : ill. ; 30 cm.

Tesi di diploma di 1┬░ livello per la Classe delle Scienze Sperimentali

Includes bibliographical references (p. 22, 37, 75, 84).

Miniaturizzazione dei dispositivi elettronici : Introduzione, Drogaggio dei semiconduttori e ruolo dell'Arsenico, Scopo della tesi : drogaggio dei sistemi a bassa dimensionalità, Riferimenti bibliografici -- Tecniche sperimentali per la fabbricazione dei campioni : Deposizione dei campioni mediante sputtering, Preparazione dei campioni, Riferimenti bibliografici -- Analisi sperimentali e risultati : Analisi dei campioni appena depositati e impiantati, Analisi dei campioni trattati termicamente. Discussione dei dati sperimentali e modelli teorici : Diffusione standard dell'As nel campione 145. Segregazione dell'As nel campione 265. Riferimenti bibliografici -- Conclusioni -- Appendice : Spettrometria di ioni retrodiffusi alla Rutherford -- Riferimenti bibliografici.

Tesi discussa il 2/12/2008.


@IBM.


Nanotechnology.
Materials science.

620.5